| Type |  Book |
| ชื่อเรื่อง | Advances in low temperature rf plasmas : basis for process design / edited by T. Makabe |
| ISBN | 0444510958 |
| | 9780444510952 |
| พิมพลักษณ์ | Amsterdam ; Boston : Elsevier, 2002 |
| ครั้งที่พิมพ์ | 1st ed |
| รูปเล่ม | xii, 341 p. : ill. ; 27 cm |
| หัวเรื่อง | Low temperature plasmas --Industrial applications [] |